2008國際薄膜太陽能光電技術與設備發展研討會(高雄)

近五年來，太陽光電製程與設備產業技術快速的發展中，全球太陽電池產量年成長率均超過50%，顯示其不可限
量的發展潛力。為促進台灣太陽能光電設備產業之先進技術發展與交流，推動設備、零組件國產化，特規劃舉辦
「2008國際薄膜太陽能光電技術與設備發展研討會」。論壇中特邀請多位國際產業界專家及學者，介紹國際間
太陽能光電設備產業發展現況、趨勢、及最新先進技術應用，其中包含國際知名的原子層氣相沉積(ALD)與大氣
表面奈米鍍膜技術大廠-Beneq Oy( Finland)公司 與專業PECVD電漿鍍膜技術廠-德國CCR Technology
GmbH(Germany)公司，以及國內學者專家進行薄膜太陽光電製程先進技術研討：

－Prof. 江雨龍：介紹矽薄膜太陽能電池製程技術。
－Prof. 黃家華：介紹CIGS薄膜太陽能電池製程技術。
－Dr. Manfred Weiler：介紹電感耦合式(ICP)電漿技術於微晶矽薄膜太陽能電池製程的應用。
－Dr. Jarmo Skarp：介紹原子層氣相沉積 (Atomic Layer Deposition) 技術於薄膜太陽能電池製程之應
用，同時將討論ALD於大面積鍍膜時可能遇到的問題。
－Dr. Tommi Vainio：介紹常壓式表面噴塗奈米鍍膜技術與設備於太陽光電玻璃製程相關之TCO、Low-e、
TiO2鍍膜技術之應用。

活動網址：http://college.itri.org.tw/SeminarView1.aspx?no=53080072&msgno=303194

文章出處：工業技術研究院